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    光刻系統

    • 半自動光刻機
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    半自動光刻機半自動光刻機半自動光刻機

    半自動光刻機

    半自動光刻機
    光刻機又名:掩模對準曝光機,曝光系統,光刻系統,光刻機,紫外曝光機等;
    MIDAS為全球領先的半導體設備供應商,多年來致力于掩模對準光刻機和勻膠機研發與生產,并且廣泛應用于半導體、微電子、生物器件和納米科技領域;該公司是目前世界上最早將光刻機商品化的公司之一,擁有雄厚的技術研發力量和設備生產能力;并且其設備被眾多著名企業、研發中心、研究所和高校所采用;以優秀的技術、精湛的工藝和良好的服務,贏得了用戶的青睞。

    產地:韓國MIDAS公司,唯一能做到圖形化藍寶石襯底(PSS)光刻機,高性價比
    型號:MDA-400M, MDA-60MS
    廠家鏈接:http://www.midas-china.com.cn/



    主要特點:
    - 光源強度可控;
    - 紫外曝光,深紫外曝光(Option);
    - 系統控制:手動、半自動和全自動控制;
    - 曝光模式:真空接觸模式(接觸力可調),Proximity接近模式, 投影模式;
    - 真空吸盤范圍可調;
    - 專利技術:可雙面對準,可雙面光刻,具有IR和CCD模式
    - 雙CCD顯微鏡系統,最大放大1000倍,顯示屏直接調節,比傳統目鏡對準更方便快捷,易于操作。
    - 特殊的基底卡盤可定做;
    - 具有楔形補償功能;
    上一個:納米壓印系統 下一個:勻膠機

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