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光刻系統

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勻膠機勻膠機勻膠機勻膠機

勻膠機

勻膠機
勻膠機有很多種稱謂,英文叫Spin Coater或者Spin Processor,又稱甩膠機、勻膠臺、旋轉涂膠機、旋轉涂膜機、旋轉涂層機、旋轉涂布機、旋轉薄膜機、旋轉涂覆儀、旋轉涂膜儀、勻膜機,總的來說,他們原理都是一樣的,既在高速旋轉的基片上,滴注各類膠液,利用離心力使滴在基片上的膠液均勻地涂覆在基片上,厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數而不同,也和旋轉速度及時間有關。
勻膠機適用于半導體、硅片、晶片、基片、導電玻璃及制版等表面涂覆工藝, 可在工礦企業、科研、教育等單位作生產、科研、教學之用。勻膠機可以用于制作低于10nm厚度的薄膜,并且在清洗和刻蝕中也被廣泛使用。
由我司提供的勻膠機,在高校、研究所及半導體產業享有很高的聲譽,相信能滿足您多種不同應用要求。
產地:韓國MIDAS公司,
型號:SPIN-1200D
廠家鏈接:http://www.midas-china.com.cn/



勻膠機通用參數:
旋轉襯底最大尺寸:4”、6”、8”、12”、550mm;
按客戶需求提供整體解決方案,可以旋涂最小3mm, 最大1000mm襯底;
從手動到全自動溶質分配的選擇范圍寬大;
無振動轉速最高8000rpm;
真空吸附,無污染;
臺式勻膠機,占用空間小;
具備耐化學性的無縫聚丙烯外罩,并且勻膠機主機易清洗;
聚四氟乙烯(PTFE)的勻膠機可用于強腐蝕性化學材料;
便于程序操作的全尺寸鍵盤,甚至帶著手套都可以方便使用;
可以準確重復運行程序的數字程序控制系統;
高度靈活的多重可編程步驟組成復合程序。


應用范圍:
可用于光刻膠(PR),聚酰亞胺(Polyimide),金屬有機物(Metallo-organics),攙雜劑(Dopant),硅薄膜(Silica Film),以及大多數的有機溶液、水溶液;

全自動的勻膠及顯影工藝必需的全自動Chip生產設備:
上一個:半自動光刻機 下一個:硅穿孔工藝設備

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